真空電弧熔煉爐產(chǎn)品用途

非自耗真空電弧爐主要供大專院校或科研機構(gòu)在真空或保護氣氛下對少量（數(shù)十克至上百克）貴金屬或合金材料高熔點材料·難熔金屬等進行熔化處理。

通過電弧放電的方式加熱并融化金屬原料，使之成為合金

產(chǎn)品結(jié)構(gòu)說明

真空電弧熔煉爐由爐體、上電極、下電極及爐蓋升降機構(gòu)、上電極旋轉(zhuǎn)升降機構(gòu)，吸鑄模具升降機構(gòu)，真空系統(tǒng)及電源系統(tǒng)等組成。

爐體采用雙層水冷結(jié)構(gòu)，內(nèi)外層為不銹鋼組焊接而成，并做表面啞光處理。結(jié)構(gòu)新穎外形美觀大方。

控制系統(tǒng)與爐體采用一體化設(shè)計，并安裝有金屬模擬屏，操作按鈕按照功能用途集中模塊化布局，并配有模擬圖形，識別度高，方便操作。

下電極可裝有五個坩堝工位，一個吸鑄工位 移動上電極可選擇一個進行熔化。

上電極可上下移動，方便熔化操作。

爐側(cè)有一至二個觀察窗用來操作引弧，觀察窗上裝有墨色玻璃保護操作者眼睛。

真空系統(tǒng)采用二級泵，即K-200油擴散泵（或者分子泵）和TRP-24直聯(lián)泵，操作無聲，無雜音。真空機組上設(shè)有水冷擋板、放氣閥及充氣閥。

電源控制采用電弧熔煉電源，安全系數(shù)高，穩(wěn)定性強。電路設(shè)有斷水報警及保護功能。

設(shè)備參數(shù)

1、型號：DHL-1250

2、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室，尺寸φ400X400mm

3、真空系統(tǒng)配置：機械泵、擴散泵（分子泵）、擋板閥

4、極限壓力：≤6.67x10E-3Pa  ≤6.67x10E-4Pa  （分子泵）

5、熔煉電流：長期工作電流700-1200A

6、熔煉坩堝：有五個工位 (半球窩SR25)、三個熔煉合金工位 (帶磁攪拌)、一個吸鑄工位、一個熔煉除氣工位

7、熔煉樣品重量 (以鐵標定)： 50~80克

8、真空吸鑄裝置：提供標準噴鑄模具1套

9、電弧熔煉陰極裝置

10、引弧方式：高頻引弧

11、設(shè)備占地面積：1200*800*1600